Materialien

Nicht-Oxidkeramiken


Zunehmendes Potenzial für die Zukunft
Nichtoxidkeramiken wie Nitride, Carbide, Boride unterscheiden sich von den Oxidkeramiken vorrangig durch ihre vielfach besseren bis sehr guten elektrischen Leitfähigkeit und eine hohe Härte. Im Moment sind die Nichtoxidkeramik- Targets bei vielen Kunden ein Nischenprodukt; sie bieten aber aufgrund ihrer besonderen Eigenschaften ein zunehmendes Potenzial für die Zukunft. Die Anforderungen an die Fertigung von Nichtoxidkeramiken sind allerdings erheblich. Beispielsweise benötigen solche Targets wie B4C, TiB2 oder ähnliche eine Hochtemperaturtechnik mit teilweise Temperaturen von über 2000°C.

Um die gesamte Breite dieser Werkstoffe herstellen zu können, nutzen wir Fertigungstechniken, wie die Sintertechnik, die Heißpresstechnik oder die HIP-Technik. Somit ist das Unternehmen in der Lage, alle bisher gestellten Anforderungen an Targets zu erfüllen. Durch die jahrelange Erfahrung, sowie der gesamten in unserem Hause angesiedelten Wertschöpfungskette, sichern wir unseren Kunden neben optimalem Service auch höchste Qualität.

Die Abmessungen und die geometrische Ausführung sollten im Vorfeld gemeinsam festgelegt werden. Sputtertarget-Abmessungen nach Ihren Wünschen und Zeichnungen.

Werkstoff Sputtertarget planar gebondet chemische Formel Reinheit (%) Dichte (g/cm³) Schmelzpunkt (°C) molare Masse  (g/mol)
Borcarbid B4C 99,9 2,52 2350 55,2
Lanthanborid LaB6 99,9 2,61 2210 203,76
Molybdänsilizid MoSi2 99,9 6,31 1920 152,1
Molybdänsulfid MoS2 99,9 5,06 450 160
Siliziumcarbid SiC 99,9 3,16 2700 40,1
Siliziumnitrid Si3N4 99 3,2 1900 140,24
Titanborid TiB2 99,9 4,38 3225 69,48
Titancarbid TiC 99,5 4,93 3140 59,88
Titannitrid TiN 99,5 5,22 2950 81,88
Titansilizid TiSi2 99,9 4,39 1540 105,04
Wolframcarbid WC 99,9 15,63 2800 195,85
Zirkonborid ZrB2 99,5 6,09 3000 112,84
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